一、產品關鍵詞
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二、碳納米管的簡介
碳納米管，是在1991年1月由日本筑波NEC實驗室的物理學家飯島澄男使用高分辨透射電子顯微鏡從電弧法生產的碳纖維中發現的。它是一種管狀的碳分子，管上每個碳原子采取sp2雜化，相互之間以碳-碳σ鍵結合起來，形成由六邊形組成的蜂窩狀結構作為碳納米管的骨架。每個碳原子上未參與雜化的一對p電子相互之間形成跨越整個碳納米管的共軛π電子云。按照管子的層數不同，分為單壁碳納米管和多壁碳納米管。管子的半徑方向非常細，只有納米尺度，幾萬根碳納米管并起來也只有一根頭發絲寬，碳納米管的名稱也因此而來。而在軸向則可長達數十到數百微米。
碳納米管不總是筆直的，局部可能出現凹凸的現象，這是由于在六邊形結構中混雜了五邊形和七邊形。出現五邊形的地方，由于張力的關系導致碳納米管向外凸出。如果五邊形恰好出現在碳納米管的頂端，就形成碳納米管的封口。出現七邊形的地方碳納米管則向內凹進。
三、碳納米管溶液應用于：
①超級電容器
② 催化劑載體
③儲氫材料等等
四、碳納米管溶液分散的難點是:
碳納米管除具有一般納米粒子的尺寸效應外，還具有力學強度大、柔韌性好、電導率高等*的性質，成為聚合物復合材料理想的增強體，在化工、機械、電子、航空、航天等領域具有廣泛的應用。但由于碳納米管易聚集成束或纏繞，而且與其他納米粒子相比，其表面是相對“惰性”的，在常見的有機溶劑或聚合物材料中的分散度低，這極大地制約了其廣泛應用。因此，對碳納米管的表面進行改性已成為聚合物 /碳納米管復合材料的研究熱點之一。目前，國內外對碳納米管表面改性的研究主要是在其表面引入共價鍵和非共價鍵基團，例如采用表面化學反應改性、表面活性劑改性等，或采用聚合物分子對碳納米管進行包覆改性等方法.近年來。還提出了紫外線照射、 等離子射線改性等處理方法。 表面改性的碳納米管用于聚合物復合材料可以顯著改善材料的力學性能、 電性能和熱性能等。
五、GMD2000系列研磨分散機是由膠體磨、分散機組合而成的高科技產品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。
六、GMD2000系列研磨分散機的特點：
1、碳納米管溶液分散機采用上海SGN技術，*創意，融化理念。將SGN高剪切膠體磨進行進一步的改良，在原來GM2000系列的基礎上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤（均質盤、乳化盤）。從而形成改良型的膠體磨，先研磨后分散（均質、乳化），將物料的處理一步到底的完成，我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機”。
2、研磨分散機采用德國博格曼雙端面機械密封，在保證冷卻水的前提下，可24小時連續運行。而普通分散機很難做到連續長時間的運行，并且普通分散機不能承受高轉速的運行。通過梳齒狀定子切割破碎，縫隙疏密決定細度大小，超高線速度的吸料式葉輪提供*切割力。
3、研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。一級由具有精細度遞升的三層鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。
七、GMD2000系列研磨分散機的設備選型表
| 型號 | 流量L/H | 轉速rpm | 線速度m/s | 功率kw | 入/出口連接DN |
| GMSD2000/4 | 300 | 18000 | 51 | 4 | DN25/DN15 |
| GMSD2000/5 | 1000 | 14000 | 51 | 11 | DN40/DN32 |
| GMSD2000/10 | 2000 | 9200 | 51 | 22 | DN80/DN65 |
| GMSD2000/20 | 5000 | 2850 | 51 | 37 | DN80/DN65 |
| GMSD2000/30 | 8000 | 1420 | 51 | 55 | DN150/DN125 |
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